H 型光电反应釜

描述：H 型光电反应釜此装置能够实现控温耐高压操作，耐压 10MPa，采用 316L 不锈钢釜体，内部与溶液可能接触的部位喷涂 PFA，保证了耐高温<200℃；温度控制采用的夹层水浴或油浴控制，热传导速度快。

更新时间：2023-11-06

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YZEPCR-H 型 H 型光电反应釜又叫： H 型光电反应器、双通道光电反应器、 H 型可换膜光电反应器此装置能够实现控温耐高压操作，耐压 10MPa ，采用 316L 不锈钢釜体，内部与溶液可能接触的部位喷涂 PFA ，保证了耐高温 <200 ℃；温度控制采用的夹层水浴或油浴控制，热传导速度快。反应釜中间可以添加离子膜，用于双室反应光电反应，也可以当做两个独立的光电反应釜使用，实现了一机多用。标配电极为三支，全部采用 PEEK 材料，电极既可以耐温，又可以耐压。

YZEPCR-H 型 H 型光电反应釜参数表：

项目	参数
光电反应釜	316L 耐腐蚀不锈钢，内部全部喷涂 PTFE H 型双室反应体系，单室可单独使用，单室容积 100ml
耐压	<10MPa ，含进出气体阀门
温度	<100 ℃（水浴控温）， <200 ℃ ( 油浴控温 ) ，控温精度 0.1 ℃釜体内部标配控温夹层，内部测温采用 Pt100 ，含温度显示表；通水孔 12mm
电极	PEEK 三电极（标配），选配进口耐高温耐压参比电极
通光孔	Φ 40mm ，蓝宝石（全光谱高透），双通光孔
要求离子膜规格	直径 50mm
阀门	岩征仪器高温高压针阀
密封	耐高温密封圈
光源（选配）	氙灯光源、 LED 光源、汞灯光源
控温循环机（选配）	循环控制系统

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